氯化氢

高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻

    高纯氯化氢是集成电路生产中硅片蚀刻，钝化和外延等工艺的重要材料，也可用于金属冶炼，光导通讯和科学研究等领域。随着大规模集成电路的发展，对氯化氢纯度的要求越来越高，对其中杂质的含量要求越来越苛刻，尤其要求严格限制碳氢化合物和碳氧化合物的含量，以防止硅片加工过程中c的形成。国内外对于制备高纯氯化氢的方法有很多。今天跟大家简单介绍一下其中的盐酸脱析法的工艺流程：盐酸脱析法。将浓盐酸置于脱析塔中加热脱析制氯化氢气体。盐酸脱吸法制高纯氯化氢广泛应用于PVC、氯丁二烯和高纯盐酸等的生产中。此种方法生产的氯化氢气体纯度在99．9％ (质量分数)以上。

    其工艺流程为：将浓盐酸贮槽之浓酸用浓酸泵打至脱吸塔，脱吸塔下部连接再沸器，浓酸自塔顶喷淋而下，与来自再沸器的稀酸蒸气逆流传质传热，使氯化氢脱吸。所得之恒沸酸一部分补充再沸器的循环，一部分则经板式冷却器后流入稀酸贮槽。由脱吸塔出来的含水蒸气氯化氢气体，进人石墨列管冷却器用水冷却后经过旋风分离器，分离出夹带酸雾。然后，经过一系列的常温、低温干燥、吸附除水及二氧化碳，压缩至1．2MPa，进行低温精馏，再经低温吸附除氮后压缩至4．2MPa，装瓶。

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